濺射靶材： 濺射靶材按（àn）形狀分類：矩形平（píng）麵靶材、圓形平麵靶材（cái）、圓柱靶材

濺射靶材按成分分類：單質金屬靶材、合（hé）金靶材、陶瓷靶材

平麵靶材利用率比較低，隻有30%左右，沿著（zhe）環（huán）形跑道刻蝕。 

靶材冷卻（què）與靶（bǎ）背板 

1. 靶功率密度與靶材冷（lěng）卻：靶功率越大，濺射（shè）速度越大（dà）；靶允許的功（gōng）率與靶材的性質及冷卻（què）有關；靶材采用直接（jiē）水冷，允許的靶功率高。

2. 靶背板 target backplane

使用場（chǎng）合：ITO,SiO2,陶瓷等（děng）脆性靶（bǎ）材及燒結靶材Sn(錫）, In（銦）等（děng）軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴

材質要求：

導熱性好---常用無氧（yǎng）銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；強度足夠---太（tài）薄，容易變形，不易真空密（mì）封。 

結構： 

空心或者實心結構---磁（cí）鋼不泡或泡在冷（lěng）水中；厚度適當---太厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形（xíng）。