最直接的鍍膜（mó）控製方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這（zhè）種儀器可以直（zhí）接驅動蒸發源，通過PID控製循環驅（qū）動擋（dǎng）板，保持蒸發（fā）速率。隻要將儀器與係統控製軟件相連接，它（tā）就可以控製整個（gè）的鍍膜（mó）過程。但是(QCM)的（de）精確度是有限的，部分原因是由於它監控的（de）是被鍍膜的質量而不是其（qí）光學厚度。
    此外雖（suī）然QCM在（zài）較低溫度（dù）下非常穩定，但（dàn）溫度較高時，它會變（biàn）得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個（gè）敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。
    光學監控是高精密鍍膜的的（de）首選監控（kòng）方式，這是因為它可以更精確地控製膜層厚度（dù）(如果運（yùn）用得當)。精確度的改進源於很多因素,但最根本的原因是對光學厚度的監控。
    OPTIMAL SWA-I-05單波長光學監控係統，是采用間接測控，結合汪（wāng）博士開發的先進光學監控軟件，有效提高光（guāng）學反應對膜厚度變化靈敏度（dù）的理論和方法來減少終極誤差，提供了反饋或傳輸的選擇（zé）模式和大範圍的監測波（bō）長。特別適（shì）合於各種（zhǒng）膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。

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