什麽是PVD 技術 

PVD-物理氣相沉積：指利用物理過程實現物質轉移（yí），將原子或分子由源轉移到基材表麵上的過程。

它（tā）的作用是可以使某些（xiē）有特殊性能（強（qiáng）度高、耐磨性（xìng）、散（sàn）熱性、耐腐性等）的微粒噴塗（tú）在性（xìng）能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。

PVD基（jī）本方法：真空蒸鍍、濺鍍 、離子鍍（空心陰極離子（zǐ）鍍、熱陰（yīn）極離子鍍、電弧離（lí）子鍍、活性反應離（lí）子鍍、射頻離子鍍（dù）、直流放電離子鍍）。

PVD 技術是目前國際上科技含量高且被廣泛（fàn）應用的離子鍍膜技術，它具有 鍍膜層致密均勻、附著力強、鍍性好、沉（chén）積速度快、處理溫（wēn）度低（dī）、可鍍材料（liào）廣泛等特點.

PVD 本身鍍膜過程是高溫（wēn）狀態（tài）下，等離子場下的輝光反（fǎn）應（yīng），亦是一個高淨化處理過程；鍍層的主（zhǔ）要原材料是以鈦金屬為主，鈦是金屬中最與人體皮膚（fū）具親和性能的，使得PVD 產品本身具備（bèi）純淨的環保（bǎo）性能。