真空蒸（zhēng）鍍、濺鍍、離子鍍 

真空鍍主要包括真空蒸（zhēng）鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都（dōu）是采用在真空（kōng）條件下，通過蒸餾或濺（jiàn）射等方式在塑件表麵沉積各種金屬和非金屬薄膜，通（tōng）過這樣的方式可以得到非常薄的表麵鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是（shì）價格也較高，可以進行（háng）操作的金屬類型較少，一般用來作較（jiào）高檔產品的功能性鍍層。

真空蒸鍍法是在（zài）高真空下為金屬（shǔ）加熱，使其熔（róng）融、蒸發，冷卻後在樣品表麵形成金屬薄膜的方法,鍍層厚度為0.8-1.2um。將成形品表麵的微小凹凸部（bù）分填平，以獲得如鏡麵一樣的表（biǎo）麵，無任是為了得到反射鏡作用而實施真空蒸鍍，還是對密接性較低的奪鋼進行真空蒸鍍（dù）時，都必須（xū）進行底麵塗布處理。

濺鍍通常指的是磁控濺鍍，屬於高速低溫濺鍍法。該工藝要求真空（kōng）度在1×10-3Torr左右，即（jí）1.3×10-3Pa的真空狀態充入惰性氣體氬氣（Ar），並在塑膠基（jī）材（陽極）和金屬靶材（陰極）之間加上高壓直流電，由於輝光放電（diàn）（glow discharge）產生的電子（zǐ）激發惰性氣體，產生（shēng）等離子體，等離子體將（jiāng）金屬（shǔ）靶材（cái）的原子轟出，沉積（jī）在塑膠基材上。一般金屬（shǔ）鍍膜大都采用直（zhí）流（liú）濺（jiàn）鍍,而不導電的陶磁（cí）材料則使用RF交（jiāo）流濺鍍。

離子（zǐ）鍍是（shì）在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸（zhēng）發物質部分電離（lí），並在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下，將蒸發物（wù）質（zhì）或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰（yīn）極蒸鍍（dù）法（fǎ））、多弧離子鍍（陰極（jí）電弧（hú）離子鍍）等。