氣（qì）體的分布狀況對於平板基片鍍膜來說是極（jí）其重要的，通過（guò）機（jī）械（xiè）結（jié）構設計，使氣體密度的變化率在濺射沉積區域內（nèi）的盡量小。

而在區域外，使係統的流導盡量的大，以提高氣體的利用率和抽氣係統的效率。

控製氣體分布的（de）機械部件或結構（gòu）包括布氣係統、真（zhēn）空室的結構、抽（chōu）氣係統等三（sān）個部（bù）分。