真空蒸發鍍膜法（fǎ）（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真（zhēn）空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件（jiàn）下， 

使其原子或分子（zǐ）從表麵汽化逸出，形成蒸汽流，並飛行濺（jiàn）射（shè）到玻璃基板表麵（miàn）凝結形成固態薄膜的方法。

由於真空蒸鍛（duàn）法的主要物理過程是通過加熱蒸發材料而產生（shēng），所以又稱熱（rè）蒸（zhēng）發法。蒸發源作為蒸發（fā）裝置的關鍵部件，

大（dà）多（duō）數蒸發材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發。真空（kōng）蒸鍍法按蒸發源的不同可（kě）分為電阻法、電子束蒸發法、高頻感應法和激光蒸（zhēng）發法等。