對於（yú）真空鍍（dù）膜（mó）機設備的分類，到底了解多少？
真空鍍膜機（jī）主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜設（shè）備，包括真空離子蒸發鍍（dù）膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍（dù）膜機等（děng）很多種。

主要是分成蒸發和濺射兩種。
在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。
基片與靶材同在真空腔中（zhōng）。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表麵組分以原子團或離子形式被蒸發出來，並且沉降在基片表麵，通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜（mó）機對於濺（jiàn）射類鍍膜，可（kě）以簡單理解為（wéi）利用電子或高能激光（guāng）轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離（lí）子形式被濺（jiàn）射出來，
並且（qiě）最終（zhōng）沉積在基片表麵，經曆成膜過（guò）程，最（zuì）終形成（chéng）薄膜。爐體可選擇由不鏽（xiù）鋼、碳鋼或它（tā）們的組合製成的雙層水冷結構（gòu）。

根（gēn）據（jù）工藝要求選擇不同規格及類型鍍膜設備，其類型有電阻蒸發真空鍍膜設備（bèi）、電子束蒸發真空鍍膜（mó）設備、
磁（cí）控濺射真（zhēn）空（kōng）鍍（dù）膜設備、離子鍍真空（kōng）鍍膜設備、磁控反（fǎn）應濺射真空鍍（dù）膜設備、空心（xīn）陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉（zhuǎn）+自轉（zhuǎn）方式，用戶可根據片尺寸及形狀提出相應要求，轉動的速度範圍及轉動精度：普通可調及變頻調速等。