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真(zhēn)空蒸鍍之工藝對比

作者: 來源: 日期:2020-09-02 11:14:18 人氣:182697
1. 電阻蒸發源蒸鍍發  


A. 加(jiā)熱:高熔點金屬做成適當形狀蒸發源,電流通過直接加熱。 


B. 優點:結構簡(jiǎn)單、造價便宜、使用可(kě)靠(kào)


C. 缺點:所能到到的最高溫度有限,加熱器壽命較(jiào)短(duǎn)


D. 適合:熔點(diǎn)不太高,尤其對膜層質量要(yào)求不大高的大批量生產。 


 2. 電子束蒸發源蒸鍍發 


A. 蒸發材料放入冷水鉗鍋中,利用電子束加熱


B. 優點:獲得更大能量密度,使高熔點材料蒸發且速度快,膜的純度較高,熱效率高。


C. 分類:環形槍,直槍,e型槍和空心陰極槍(qiāng)等幾種。


D. 適合:高熔點(diǎn),純度要求高的(de)材料。
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