真空鍍膜技術是一種新（xīn）穎的材料合成與加工技術，是表麵工程技術領域的重要組成（chéng）部分；

起源於20世紀30年（nián）代，直到80年代才形成工業化大規模生產，廣泛應用於電子、裝潢（huáng）裝飾、通訊、照明等工業（yè）領域（yù）。

是在真空環境下，金（jīn）屬或金屬氧化物（wù）變成氣態原（yuán）子或（huò）分子，沉積在金（jīn）屬或非金屬表麵而形成。 

被譽為最具發展前途的重要技術之一，並在高技術產業化的發展中展現出誘人的市場前景。

真空的作用

1. 減（jiǎn）少蒸發分子跟殘餘氣體分子的（de）碰撞

2. 抑製（zhì）它們之間的反應

優（yōu）勢 

低耗能、無毒、無廢液、汙染小、成本低、裝飾效果好、金（jīn）屬感強。