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PVD直流圓柱靶磁控濺射卷繞鍍金

作者: 來源:PVD薄膜 日期:2020-06-23 17:17:54 人(rén)氣:107026

卷繞鍍金靶材製作方便並且簡單,由SUS靶材和Ti靶進行鍍Tin獲得次磁場線,對SUS靶材進行噴塗24K金加工便造(zào)成靶材(cái)製作。 

 

選擇圓柱靶最大的優勢在於對(duì)貴金屬Au的有限利用率(lǜ),節(jiē)省加工成本,以及可以獲得更多的顏色。 

 

卷繞鍍金采用在圓柱直流(liú)靶材上通過卷繞(rào)各種不同材(cái)質(zhì)的絲使純Au直流靶變成多樣化複合Au靶材,常用卷繞材質有Cu, Ni, Al, Ag等,可以製備的顏色有

IPG1N  (L值:88     a值:3.5     b值:27)

IPG2N  (L值:88     a值:6         b值:32)

IPG3N     (L值:90     a值:3.5     b值:38)

IPSSG     (L值(zhí):85     a值:2         b值(zhí):21)

IPRG       (L值:86     a值:11       b值(zhí):19)

IPYG       (L值:87     a值:7.5      b值:29)

具體顏色由卷繞(rào)絲和數量決定,以上僅常用(yòng)Au顏色。

下一個:常用的塗層
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