磁控濺射（shè）鍍膜技術介紹
作者： 來源： 日期：2020-06-08 9:18:10 人氣：19490
磁（cí）控濺射鍍膜設備（bèi）是一種（zhǒng）具有結構簡單、電器控製穩定（dìng）性好等優點的真空鍍膜（mó）機（jī），其工藝技術（shù）的選擇（zé）對（duì）薄膜（mó）的性能具有重要影響。
磁控濺（jiàn）射鍍膜技術在陶瓷表麵裝飾中采用（yòng）的工藝流程如下：
陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽（chōu）本底（dǐ）真（zhēn）空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射→抽本底真空→濺（jiàn）射(或多次濺射)→鍍（dù）AF膜→破真空卸片→表麵檢驗→性能測試→包裝、入庫。
以上工藝技術是以磁控濺射鍍膜設備（bèi）為基礎，選用合適（shì）的靶材和濺射工藝，製出超硬（yìng）的耐（nài）磨鍍層（céng），可以（yǐ）實現材料的高硬（yìng）度、高耐磨、高耐（nài）劃（huá）傷（shāng）特性；
同（tóng）時，利用NCVM光學膜結構設計，設計出各層不同折射率材料（liào），可以調配出任意顏色，使（shǐ）得陶（táo）瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀件時尚、美觀的特點，而且不會屏蔽（bì）電磁（cí）信（xìn）號。
磁控濺射鍍膜設備配（pèi）合NCVM工藝，能夠實現對於陶瓷電子消費品的表麵裝飾處（chù）理，在保證陶瓷強度（dù）和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術性（xìng），更好（hǎo）地滿足（zú）消費者的個性化（huà）需求。
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