真（zhēn）空鍍（dù）膜設備多弧離子鍍膜上（shàng）的創新方法（fǎ），所謂多弧離（lí）子鍍膜就是置（zhì）待鍍材料和被鍍基板於室內，

真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，並飛行濺（jiàn）射到被鍍基板表麵凝聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件（jiàn）下成膜有很多優（yōu）點，可減少蒸發材料的原（yuán）子、分子在飛向（xiàng）基板過程中（zhōng）於分子的（de）碰撞（zhuàng），

減少氣體中的活性分子和（hé）蒸發源材料間的（de）化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分（fèn）子進入薄（báo）膜中（zhōng）成為雜質的量，從（cóng）而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

真空（kōng）鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝（yì）不僅避免了傳統表麵處理的不足（zú），且各項技術指標都優於傳統（tǒng）工（gōng）藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用（yòng）。

催（cuī）化液和傳統處（chù）理工藝相比，在技（jì）術（shù）上有哪些創新？

1、多（duō）弧離（lí）子鍍膜不（bú）用電、降低了（le）成本（běn）、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分（fèn）之一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之（zhī）一，不鏽鋼的四分之一（yī），可反複利用，大大降（jiàng）低了成本。