一. 鍍層附著性能好 

普通真空鍍膜時，蒸發料粒子大約隻以一個電子伏特的能量向工件（jiàn）表麵蒸鍍，在工件表麵（miàn）與鍍層之間，形（xíng）成的界麵擴散深度通常（cháng）僅為幾百個埃（āi）（10000埃（āi）=1微米=0.0001厘米）。也就（jiù）是說比一根頭發絲的百分之一（yī）還要小。兩者間可以（yǐ）說幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，蒸發料粒子電離後具有三千到五千電子（zǐ）伏特的動能。如果說普通真空鍍膜的粒子相當於一個氣喘籲籲的長跑運動員，那麽離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的（de）乘客，當其高速轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能（néng）夠穿透工件表麵，形成一種注入基體很深的擴散（sàn）層，離子鍍的界麵擴散深度可達四至五微米，也就是說（shuō）比普通（tōng）真空鍍（dù）膜的擴散深（shēn）度要深幾十倍（bèi），甚至上（shàng）百（bǎi）倍，因而彼此粘附得特（tè）別牢。對離（lí）子鍍後的試件作拉伸試驗表明，一直拉（lā）到快（kuài）要斷裂（liè）時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延（yán）伸，無起皮或剝落現象發（fā）生。

二（èr）.繞鍍能力強

離子鍍時，蒸（zhēng）發料粒子是以帶電離子的形式（shì）在電（diàn）場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在（zài）的部位，均能（néng）獲得良好鍍層（céng），這比普（pǔ）通真空鍍膜隻能在（zài）直射方向上獲得鍍層優越得多。因此，這種方（fāng）法（fǎ）非常適合於鍍複零件上的內孔、凹槽和窄縫。用普（pǔ）通真空（kōng）鍍膜隻能鍍直射表麵，蒸發料（liào）粒子尤如攀（pān）登雲梯一（yī）樣，隻順梯而上；離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背麵和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升（shēng）飛（fēi）機，能夠沿著規定（dìng）的航線飛抵其（qí）活動半（bàn）徑範（fàn）圍內的任何地方。

三. 鍍（dù）層質量好

離子鍍的鍍層組織致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱麵和凹槽都可均勻鍍複，不致形成（chéng）金屬瘤。像螺紋一類的零件（jiàn）也能鍍複，由於這種（zhǒng）工藝方法還能修補工（gōng）件表麵的微小裂紋和麻點等缺陷，故可有效地改善被鍍零件的表麵質量和物理機械性能。疲勞試驗（yàn）表明，如果處理得當，工件疲勞壽命可比鍍前高百分之二、三十.