無論監控儀（yí）精度怎樣，它也隻能控製（zhì）真空室（shì）裏單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間（jiān）位置。如（rú）果真（zhēn）空電（diàn）鍍設備此位置的膜厚不是絕對均勻的，那麽遠離中心位置（zhì）的基片（piàn）就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩（zhào）能消除表現為長期的不均勻性，但有些（xiē）膜厚度的變（biàn）化是由蒸發（fā）源的不穩定或膜材的不同表（biǎo）現而引起的，所以幾乎（hū）是不（bú）可能（néng）消（xiāo）除的，但對真空（kōng）室的結構和蒸發源的（de）恰當選擇可以使這些影響最小化。
　　在過去（qù）幾（jǐ）年中（zhōng），越來越多的用戶要求鍍（dù）膜係統製造（zào）廠家提供高性能的小規格、簡便型光學鍍膜（mó）係統，同時，用戶對性能（néng）的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密（mì）度和（hé）保證吸水後光譜變化最小化等方麵。
　　現在，係統的平均尺寸規格已（yǐ）經在降低，而應用小規格設備進（jìn）行光學鍍膜的生產也已經轉變成（chéng）為純技術問題。因此，選用現代化光（guāng）學鍍膜係（xì）統的（de）關鍵取決於對以下因素的認真考慮：對（duì）鍍膜產品的預期性能，基片的尺寸大小和物（wù）理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

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