物理氣相沉積介紹之真空卷繞鍍膜技術：
        真空卷繞鍍膜(卷對卷)是在真空下應用不同方法（fǎ）在柔性基體（tǐ）上實現連續鍍（dù）膜（mó）的一種（zhǒng）技術。它涵蓋真空（kōng）獲得、機電控製、高精傳動和表麵分（fèn）析等多方麵（miàn）內容。其（qí）重點是，在保（bǎo）證鍍膜質量前（qián）提下提高卷繞速率、控製（zhì）鍍膜（mó）穩定性（xìng）及實施在線監控（kòng）。卷對卷技術成本低、易操作、與柔性基底（dǐ）相（xiàng）容、生產率高及可連續鍍多層（céng）膜等優點。第一台真空蒸發卷繞鍍膜機1935年製成，現可鍍幅寬由500至2500mm。卷對（duì）卷技術（shù）應用由包裝（zhuāng）和裝飾用膜，近年逐漸擴大至激光防偽膜、導電等功能薄膜方（fāng）麵，是未來柔性電子等行業的主流技術之一。
        真空（kōng）卷繞鍍膜（mó）係（xì）統按結構可分為單室、雙室和多室真空卷繞係統，後兩者可解決開（kāi）卷放氣問題並分別控製卷繞和鍍膜室（shì）各自真空度。卷繞張力控製分錐度、間接和直（zhí）接控製模型，錐度控製模型可解決（jué）薄（báo）膜褶皺和徑向力分布不均的問題；間接張（zhāng）力控製無需傳感器，可用內置張力控製模塊的矢量變頻器代替；直接張力控製通過張力傳感器（qì）精確測量張力值，但需慣性矩（jǔ）和角速度等多（duō）種參數。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發、磁控濺射等方式，可用於製備新型高折射率薄膜、石墨烯等納米材料和柔性太陽能電池等半（bàn）導體器件（jiàn）。針（zhēn）對真空卷繞鍍（dù）膜技術研（yán）究現狀及向（xiàng）產業化過（guò）渡存在的問題，最後作了簡要分（fèn）析與展望。
        真空卷（juàn）對卷設備由抽真空、卷繞、鍍膜（mó）和電氣控製等係統組（zǔ）成。真空卷繞鍍膜（mó）設備根（gēn）據真空室有無擋板，可分單室、雙室和多室結構。單室（shì）的收放卷輥和鍍膜輥在同一室中，結構簡單但開卷時放氣會汙染真空環境。雙室結構將係統用擋板隔成（chéng）卷（juàn）繞和鍍（dù）膜（mó）室（shì），卷輥與擋板間（jiān）隙約1.5mm，避免（miǎn）了類似開卷放氣問（wèn）題。多室常（cháng）用於製備複合薄膜，在（zài）雙室基礎上將相鄰鍍膜區用擋板隔開避（bì）免幹擾。如Krebs等（děng）將（jiāng）Skultuna FlexiblesAB的開普頓擋板固定於兩磁控（kòng）濺射靶間，板兩側塗覆50μm的（de）銅層。分隔擋（dǎng）板（bǎn）與真空室壁狹（xiá）縫越小越好（hǎo）。據鍍（dù）膜時輥筒作（zuò）用分為單主輥和多主輥卷繞（rào）鍍膜機。據電機個數，則可分為兩電機、三電（diàn）機和四電機驅動係統。

下一個：真空鍍膜機（jī）所以在後掩蔽和清洗輥速度不太快