如何（hé）掌控真空鍍膜的均勻性（xìng）
我們先來認識（shí）下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試鍍膜機是使用鍍（dù）膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測試設備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況（kuàng）與各真空泵的性能；
2、測試設備的密封性能，就是抽到極限後保壓1小時看壓降是否達標，同時排（pái）除細小（xiǎo）的漏孔；
3、產（chǎn）品試作，檢驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保證的話就繼續打樣並作測試。
5、所有的測試應作記錄，並有記錄人簽字以及有使用部門或工程（chéng）部門的人確認簽字

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍膜機原理（lǐ）的不同分為很多種類，僅（jǐn）僅因為都需要高真空度（dù）而擁有統一名（míng）稱。所以對於不同原理的真空鍍（dù）膜，影響均勻性的因素也不盡相同。並且均勻（yún）性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，下麵分別說（shuō）一下（xià）：

均勻（yún）性主要體現在3方麵：
1、厚度（dù）上的（de）均勻性，也可（kě）以理解（jiě）為粗糙度，在光學薄（báo）膜（mó）的尺度上看（也就是（shì）1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜（mó）的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度控製在可見（jiàn）光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離子鍍膜機的光學特（tè）性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指（zhǐ）原子層尺度上的（de）均勻度，也（yě）就是說要實現10A甚至1A的表麵（miàn）平（píng）整，是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技（jì）術瓶（píng）頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由（yóu）於尺度過小而（ér）很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機過程（chéng）不科學，那麽實（shí）際表麵的（de）組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜（mó）並（bìng）非是想要（yào）的膜的（de）化學（xué）成分，這也是真空鍍膜的（de）技術含量所（suǒ）在。
3、晶格有（yǒu）序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多（duō）晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。 

下一個：沒有資料