HLG係列多（duō）弧離子真空鍍膜機工作原（yuán）理是把真空弧光放電技術用於蒸發源的技術，即在真空環境下引燃蒸發源(陰（yīn）極)，與陽極之間形成自持弧光放電，既從陰極弧光輝點（diǎn）放出陰極物質的離子。由（yóu）於電流局部的集中,產生（shēng）的焦耳熱使陰極材料局部的爆發性地等離子化，在工件偏壓的作用下與反應氣體化合，而沉積在工件表麵上形（xíng）成被鍍的膜層。

1、工具行業（鑽頭、硬質合金、銑刀、拉（lā）刀（dāo）、刀頭）
2、汽車工業（活塞、活塞環、合金（jīn）輪轂等）

1、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。
2、沉積速率高，鍍膜速度快，覆蓋領域廣，可以在多種產品上鍍製各類裝飾膜或功能膜，是中、高端產品大量生產的適宜設備。