工（gōng）作原理可分為：電阻加熱蒸發真空卷繞（rào）鍍膜設（shè）備；感（gǎn）應加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；電子束加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；磁控濺射真空（kōng）卷繞鍍膜設備等。其中電子（zǐ）束加熱真（zhēn）空卷繞（rào）鍍膜（mó）設備（bèi）用於大量蒸鍍高熔點物質如Si02.而磁控濺射原理的卷繞鍍膜（mó）設備生產效率較（jiào）低，但具有鍍膜適應範（fàn）圍寬膜層附著牢的優點（diǎn）。

1、CJRW係列主要應用在柔性線路板、ITO透明導電膜、薄膜電容、汽車貼膜、薄膜太陽（yáng）能電池、柔性太陽能電池（chí）等方麵。采（cǎi）用磁控濺射（shè）鍍膜技術，配備直流、中頻或射頻磁控濺射（shè）係統，適合鍍製金屬（shǔ）膜、導電膜、合計膜、介質膜等。 
2、SFRW係列采用電子束蒸發鍍膜技術，適合在PET、PVC、PI、CPP等薄膜表麵鍍製透明高阻包裝膜、防偽（wěi）膜、幻彩（cǎi）膜、光學膜、介質膜等。
3、ZFRW係列主要應用在印刷包裝膜、包裝紙、金銀線、電容膜、功能薄膜等方麵。設備采用先進的高頻感應蒸發或者連續送絲蒸發等技（jì）術，整個過程全自動控製。