CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理，所謂（wèi）“濺射”就是用荷能（néng）粒子（通常用氣體正離子）轟擊（jī）物體，從而引起物體表麵原子從母體中逸出的現象（xiàng）。早在1842年Grove在實驗（yàn）室中就發現了這種（zhǒng）現象。磁控濺射靶采用（yòng）靜止電磁場，磁場為曲線（xiàn）形，均勻（yún）電場和對數電（diàn）場則分（fèn）別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用（yòng）下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電（diàn）子具有足夠的（de）能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電（diàn）子飛向（xiàng）基片，Ar+在（zài）電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高（gāo）能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於家電電器（qì）、鍾（zhōng）表、高（gāo）爾夫球頭、工藝美術（shù）品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表（biǎo）、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工（gōng）模具的功（gōng）能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和（hé）重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的（de）薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力（lì）強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現（xiàn）象，在基片上形成一層濺射原子（zǐ）與基片原子相互溶合的偽擴散層（céng）；
3）、製備特（tè）殊材料的薄（báo）膜，可以使用（yòng）不同（tóng）的材料（liào）同時濺射製備（bèi）混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度高，濺射（shè）膜層（céng）中不會混入（rù）坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備（bèi）低溫離子輔助源（yuán），無（wú）需加熱直接常溫冷鍍成（chéng）膜，節能省（shěng）電，提高產能。