GSF係列高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機
日期:2016-01-13 10:18:51 人(rén)氣:26867
GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機的工作原理(lǐ)是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接(jiē)利用電子束加熱,使膜材中的原子或分子從表麵汽化逸出(chū)後入射到基片表麵(miàn)凝結成膜。電(diàn)子束蒸發比一般電阻加熱蒸發熱效率高、束流密度大、蒸發速度快,製成(chéng)的薄膜純度高。
光(guāng)學(xué)鍍膜設備可鍍(dù)製(zhì)層數較多的短波通、長(zhǎng)波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜(mó)、帶通膜、介質膜、高(gāo)反膜、彩(cǎi)色反射膜等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜係鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配(pèi)置不同的蒸發源、電子槍和離子源及膜厚儀(yí)可鍍多種膜係,對金屬、氧化(huà)物、化合物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍。
1)、高精密光學鍍膜機配(pèi)備有石英(yīng)晶體膜厚(hòu)儀、光學膜厚自(zì)動(dòng)控製係統,采用PLC與工業電腦配(pèi)合自主(zhǔ)研發的(de)PY3100係統聯合實現對整個工作過程的全(quán)自動控製,可以(yǐ)實現無人值守,從而提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性。
2)、大(dà)抽速真空係(xì)統加配深冷裝置,優秀的(de)動態(tài)真空能力,為複雜的光學膜係製備(bèi)提供了必要的真空條件(jiàn)保障。
3)、蒸發分布穩定、性能可靠的E型電子槍,優化設計的蒸(zhēng)發(fā)源(yuán)與工件架之間的位(wèi)置關係,為精密膜係的實現調工了膜料蒸發分布方麵的保障。
4)、平(píng)穩而高速旋轉的工件(jiàn)架(jià)轉動係統,使工件架內(nèi)外圈產品光譜曲線更趨於一致。
5)、適用(yòng)於光學領域行業,大規模工業生產高端要求的廠(chǎng)商使用。
GSF高精密電子束蒸發光學真(zhēn)空鍍膜機 |
型號 | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真(zhēn)空室尺寸 | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散泵機組 | KT630擴散泵(bèng)機(jī)組 | 雙KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴(kuò)散泵機組 | KT500擴(kuò)散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙(shuāng)KT630擴散泵機組(zǔ) |
鍍膜係統 | 電子槍蒸發源、鍍膜輔助離子(zǐ)專用電(diàn)源或霍(huò)爾離子源 |
充氣係(xì)統 | 壓強控製儀 |
控製方(fāng)式 | 半自動或全自動 |
膜厚監控係統 | 石英晶體膜厚監控係(xì)統、光學膜厚(hòu)監控係統 |
抽氣速率 | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限真空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注 | 以(yǐ)上設備參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做 |