離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離（lí）子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物（wù）沉積在基片上。離（lí）子（zǐ）鍍把輝光放（fàng）電現象、等離子體技術和真（zhēn）空蒸發三者有（yǒu）機（jī）結合起來，不僅能明顯地改進（jìn）了膜質（zhì）量，而且還擴大了薄膜的應用範（fàn）圍。其優點是薄膜（mó）附著（zhe）力強，繞射性好，膜材廣泛等。多（duō）弧離子鍍與一（yī）般的離子鍍有著很（hěn）大（dà）的區別。多弧離子鍍采用的是弧（hú）光放（fàng）電，而並不是（shì）傳（chuán）統離子鍍的輝（huī）光放電進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽極殼體之間的弧（hú）光放電，使靶材蒸發，從而在（zài）空間中形成等離子（zǐ）體，對基（jī）體進行沉積（jī）。

可以鍍製不鏽鋼、鉻、鈦、鎢等多種金（jīn）屬膜（mó），也可鍍製合金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜（mó）等,臥式多弧（hú）離子鍍膜（mó）機主要針對大麵（miàn）積五金工件鍍（dù）裝飾膜或者功能膜，適合於在不鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽鋼門等工件表麵鍍膜。

1)、此類設備真空室最大尺寸能實（shí）現（xiàn） φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型板材、管材上鍍製各類裝飾膜層及功能膜（mó）膜層的適合設備。