CJ係列磁控濺射真空鍍（dù）膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺射”就是用荷（hé）能（néng）粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表麵原（yuán）子從母體中逸出的（de）現象。早在1842年Grove在實（shí）驗室中就（jiù）發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜（jìng）止電（diàn）磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數電場則分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電（diàn）場作（zuò）用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電（diàn）子具有足夠的能量（liàng）（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於（yú）家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩（wán）具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金（jīn）裝飾膜、導電膜等領（lǐng）域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍（dù）製預定厚度的薄膜，並且濺（jiàn）射鍍膜可以在（zài）較大的表麵（miàn）上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的（de）附著力強。部分高（gāo）能量的濺射原子（zǐ）產生不同程度的注入現象（xiàng），在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶（róng）合的偽擴散層；
3）、製（zhì）備特殊材料的薄膜，可以使用不同的材料（liào）同時（shí）濺射製備混合膜、化合膜，還可（kě）濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度高，濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低（dī）溫離子輔助源，無需加（jiā）熱直接（jiē）常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。